世芯-KY 為 2 奈米晶片製造的未來做好準備

隨ㄙㄨㄟˊ著ㄓㄜ˙我ㄨㄛˇ們ㄇㄣ˙進ㄐㄧㄣˋ入ㄖㄨˋ後ㄏㄡˋ摩ㄇㄛˊ爾ㄦˇ定ㄉㄧㄥˋ律ㄌㄩˋ時ㄕˊ代ㄉㄞˋ，半ㄅㄢˋ導ㄉㄠˇ體ㄊㄧˇ產ㄔㄢˇ業ㄧㄝˋ正ㄓㄥˋ在ㄗㄞˋ尋ㄒㄩㄣˊ求ㄑㄧㄡˊ超ㄔㄠ越ㄩㄝˋ單ㄉㄢ純ㄔㄨㄣˊ電ㄉㄧㄢˋ晶ㄐㄧㄥ體ㄊㄧˇ微ㄨㄟ縮ㄙㄨㄛ化ㄏㄨㄚˋ的ㄉㄜ˙方ㄈㄤ法ㄈㄚˇ，以ㄧˇ維ㄨㄟˊ持ㄔˊ效ㄒㄧㄠˋ能ㄋㄥˊ的ㄉㄜ˙成ㄔㄥˊ長ㄓㄤˇ。

世ㄕˋ芯ㄒㄧㄣ電ㄉㄧㄢˋ子ㄗˇ（Alchip Technologies）正ㄓㄥˋ領ㄌㄧㄥˇ導ㄉㄠˇ這ㄓㄜˋ一ㄧ趨ㄑㄩ勢ㄕˋ，將ㄐㄧㄤ自ㄗˋ身ㄕㄣ定ㄉㄧㄥˋ位ㄨㄟˋ為ㄨㄟˊ 2nm 晶ㄐㄧㄥ片ㄆㄧㄢˋ製ㄓˋ造ㄗㄠˋ的ㄉㄜ˙先ㄒㄧㄢ驅ㄑㄩ。

透ㄊㄡˋ過ㄍㄨㄛˋ成ㄔㄥˊ功ㄍㄨㄥ完ㄨㄢˊ成ㄔㄥˊ 2nm 測ㄘㄜˋ試ㄕˋ晶ㄐㄧㄥ片ㄆㄧㄢˋ的ㄉㄜ˙下ㄒㄧㄚˋ線ㄒㄧㄢˋ（tape-out）並ㄅㄧㄥˋ推ㄊㄨㄟ出ㄔㄨ專ㄓㄨㄢ用ㄩㄥˋ設ㄕㄜˋ計ㄐㄧˋ平ㄆㄧㄥˊ台ㄊㄞˊ，世ㄕˋ芯ㄒㄧㄣ正ㄓㄥˋ協ㄒㄧㄝˊ助ㄓㄨˋ人ㄖㄣˊ工ㄍㄨㄥ智ㄓˋ慧ㄏㄨㄟˋ（AI）及ㄐㄧˊ高ㄍㄠ效ㄒㄧㄠˋ能ㄋㄥˊ運ㄩㄣˋ算ㄙㄨㄢˋ領ㄌㄧㄥˇ導ㄉㄠˇ廠ㄔㄤˇ商ㄕㄤ轉ㄓㄨㄢˇ型ㄒㄧㄥˊ至ㄓˋ先ㄒㄧㄢ進ㄐㄧㄣˋ的ㄉㄜ˙環ㄏㄨㄢˊ繞ㄖㄠˋ式ㄕˋ閘ㄓㄚˊ極ㄐㄧˊ（GAA）電ㄉㄧㄢˋ晶ㄐㄧㄥ體ㄊㄧˇ架ㄐㄧㄚˋ構ㄍㄡˋ。

相ㄒㄧㄤ較ㄐㄧㄠˋ於ㄩˊ傳ㄔㄨㄢˊ統ㄊㄨㄥˇ的ㄉㄜ˙鰭ㄑㄧˊ式ㄕˋ場ㄔㄤˇ效ㄒㄧㄠˋ電ㄉㄧㄢˋ晶ㄐㄧㄥ體ㄊㄧˇ（FinFET）設ㄕㄜˋ計ㄐㄧˋ，此ㄘˇ項ㄒㄧㄤˋ技ㄐㄧˋ術ㄕㄨˋ提ㄊㄧˊ供ㄍㄨㄥ了ㄌㄜ˙更ㄍㄥˋ優ㄧㄡ越ㄩㄝˋ的ㄉㄜ˙功ㄍㄨㄥ耗ㄏㄠˋ與ㄩˇ效ㄒㄧㄠˋ能ㄋㄥˊ指ㄓˇ標ㄅㄧㄠ。

為ㄨㄟˋ了ㄌㄜ˙控ㄎㄨㄥˋ管ㄍㄨㄢˇ 2nm 的ㄉㄜ˙巨ㄐㄩˋ大ㄉㄚˋ複ㄈㄨˋ雜ㄗㄚˊ度ㄉㄨˋ，世ㄕˋ芯ㄒㄧㄣ採ㄘㄞˇ用ㄩㄥˋ先ㄒㄧㄢ進ㄐㄧㄣˋ的ㄉㄜ˙ 3DIC 與ㄩˇ小ㄒㄧㄠˇ晶ㄐㄧㄥ片ㄆㄧㄢˋ（chiplet）策ㄘㄜˋ略ㄌㄩㄝˋ，使ㄕˇ高ㄍㄠ速ㄙㄨˋ運ㄩㄣˋ算ㄙㄨㄢˋ晶ㄐㄧㄥ片ㄆㄧㄢˋ能ㄋㄥˊ與ㄩˇ較ㄐㄧㄠˋ成ㄔㄥˊ熟ㄕㄨˊ的ㄉㄜ˙ I/O 技ㄐㄧˋ術ㄕㄨˋ無ㄨˊ縫ㄈㄥˊ整ㄓㄥˇ合ㄏㄜˊ。

作ㄗㄨㄛˋ為ㄨㄟˊ系ㄒㄧˋ統ㄊㄨㄥˇ公ㄍㄨㄥ司ㄙ與ㄩˇ如ㄖㄨˊ台ㄊㄞˊ積ㄐㄧ電ㄉㄧㄢˋ（TSMC）等ㄉㄥˇ晶ㄐㄧㄥ圓ㄩㄢˊ代ㄉㄞˋ工ㄍㄨㄥ廠ㄔㄤˇ之ㄓ間ㄐㄧㄢ的ㄉㄜ˙關ㄍㄨㄢ鍵ㄐㄧㄢˋ橋ㄑㄧㄠˊ樑ㄌㄧㄤˊ，世ㄕˋ芯ㄒㄧㄣ確ㄑㄩㄝˋ保ㄅㄠˇ這ㄓㄜˋ些ㄒㄧㄝ複ㄈㄨˋ雜ㄗㄚˊ的ㄉㄜ˙設ㄕㄜˋ計ㄐㄧˋ皆ㄐㄧㄝ為ㄨㄟˊ經ㄐㄧㄥ矽ㄒㄧˋ晶ㄐㄧㄥ圓ㄩㄢˊ驗ㄧㄢˋ證ㄓㄥˋ（silicon-proven）且ㄑㄧㄝˇ已ㄧˇ做ㄗㄨㄛˋ好ㄏㄠˇ市ㄕˋ場ㄔㄤˇ準ㄓㄨㄣˇ備ㄅㄟˋ。

他ㄊㄚ們ㄇㄣ˙對ㄉㄨㄟˋ異ㄧˋ質ㄓˊ整ㄓㄥˇ合ㄏㄜˊ與ㄩˇ生ㄕㄥ態ㄊㄞˋ系ㄒㄧˋ統ㄊㄨㄥˇ完ㄨㄢˊ備ㄅㄟˋ度ㄉㄨˋ的ㄉㄜ˙重ㄓㄨㄥˋ視ㄕˋ，不ㄅㄨˊ僅ㄐㄧㄣˇ是ㄕˋ當ㄉㄤ下ㄒㄧㄚˋ的ㄉㄜ˙一ㄧ個ㄍㄜˋ里ㄌㄧˇ程ㄔㄥˊ碑ㄅㄟ；更ㄍㄥˋ是ㄕˋ邁ㄇㄞˋ向ㄒㄧㄤˋ 1.6nm（A16）製ㄓˋ程ㄔㄥˊ等ㄉㄥˇ未ㄨㄟˋ來ㄌㄞˊ發ㄈㄚ展ㄓㄢˇ的ㄉㄜ˙至ㄓˋ關ㄍㄨㄢ重ㄓㄨㄥˋ要ㄧㄠˋ一ㄧ步ㄅㄨˋ。

憑ㄆㄧㄥˊ藉ㄐㄧㄝˊ策ㄘㄜˋ略ㄌㄩㄝˋ領ㄌㄧㄥˇ導ㄉㄠˇ與ㄩˇ對ㄉㄨㄟˋ AI 基ㄐㄧ礎ㄔㄨˇ設ㄕㄜˋ施ㄕ的ㄉㄜ˙聚ㄐㄩˋ焦ㄐㄧㄠ，世ㄕˋ芯ㄒㄧㄣ正ㄓㄥˋ在ㄗㄞˋ鞏ㄍㄨㄥˇ固ㄍㄨˋ其ㄑㄧˊ作ㄗㄨㄛˋ為ㄨㄟˊ下ㄒㄧㄚˋ一ㄧ代ㄉㄞˋ運ㄩㄣˋ算ㄙㄨㄢˋ關ㄍㄨㄢ鍵ㄐㄧㄢˋ合ㄏㄜˊ作ㄗㄨㄛˋ夥ㄏㄨㄛˇ伴ㄅㄢˋ的ㄉㄜ˙角ㄐㄧㄠˇ色ㄙㄜˋ。